SUPPLY CHAIN HANDBOOK

半導體:設計、晶圓製造與封裝

沿著設計、晶圓製造與封裝測試閱讀,並把材料和設備放回使用它們的製程。製程先後與公司業務分工是兩個不同層次;同一家公司可以參與多個環節。

最近資料查閱:

閱讀內容與編排更新:

晶片製造完成後,為什麼還需要另一條封裝供應鏈?

晶圓製造解決的是晶片內部元件與線路,封裝則把微小接點接到其他晶粒或系統板,同時安排供電、保護與散熱。當邏輯與記憶體需要密集交換資料,封裝本身也成為系統設計的一部分。理解這條鏈時,可把設計資料、加工後晶圓、可用晶粒及封裝元件視為不同交付物;量測與測試在各階段穿插,協助避免把前段缺陷帶入成本更高的後續整合。

  1. IC 設計與 EDA/IP → 晶圓製造

    設計端把功能轉成可製造的電路與布局,並配合製程條件完成驗證;晶圓廠接手材料加工,透過反覆的成膜、微影、蝕刻與量測建立實體結構。

  2. 加工後晶圓與測試結果 → 晶粒選別與封裝

    晶圓測試提供個別晶粒的電性資訊,後段依產品流程切割、選別及組裝。載板、中介層或重布線結構負責把細密接點接到下一層級。

  3. 封裝結構與完成元件 → 板級系統

    封裝將晶粒間或對外連接做成可裝配介面,成品測試檢查封裝後功能;系統端再把元件裝到板上,驗證供電、訊號與散熱能否共同運作。

比較時,先看哪個差異?

比較封裝路線,先看接點密度、晶粒組合與散熱需求,再看尺寸和成本。CoWoS 適合解釋邏輯與 HBM 的密集互連,但不代表所有晶片都需要同一種封裝。

本段資料依據

半導體製造主線

IC 設計

先決定晶片做什麼,再把電路變成可製造的設計

IC 設計把運算、通訊或控制需求,轉成電路與實體布局。設計公司可以委託晶圓代工,也有企業同時經營設計與製造。設計晶片、製作晶圓和組裝終端產品,是不同的產業角色。

本條目資料查閱:2026-10-30

EDA 與 IP 各自幫什麼忙?

EDA 是設計與驗證工具;IP 是可整合的功能設計。兩者協助設計團隊完成晶片。

  • 採用 IP 不代表整顆晶片已完成。
  • 設計須配合所選製程的規則與模型。

為什麼連到手機與 AI?

SoC 與 GPU 是晶片功能類別,IC 設計則是形成這些產品的工作環節。

  • 同一公司可能跨多個產品節點。
  • 圖上關係不代表特定代工廠或客戶配對。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 系統架構與電路:邏輯、記憶體介面、類比與混合訊號 · 把功能落實為電路。 · 效能、功耗、面積與成本需平衡。
  • 實體設計與驗證:布局、繞線、時序與簽核 · 使設計符合製程及功能要求。 · 必須配合製程規則與可製造性。

判讀提醒:無晶圓廠設計公司不代表沒有硬體技術;它與晶圓廠專注不同環節。

代表公司與交付內容

  • 聯發科技 MediaTek · 台灣 · 代表角色 · IC 設計/行動運算平台

    設計手機等裝置使用的處理器及整合平台;此處標示設計角色。

    公司產品與角色來源
  • 瑞昱 · 台灣 · 代表角色 · 通訊與多媒體 IC 設計

    乙太網路及其他通訊、多媒體晶片設計。

    公司產品與角色來源

    資料查閱:2026-09-27

  • 聯詠 · 台灣 · 代表角色 · 顯示與影像 IC 設計

    顯示驅動 IC 與影像相關晶片。

    公司產品與角色來源

    資料查閱:2026-09-27

  • Qualcomm 高通 · 美國 · 代表角色 · IC 設計/運算與通訊平台

    提供 Snapdragon 等平台,整合運算、影像與通訊功能。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

EDA 與矽智財 IP

工具與可重用設計,支援晶片開發

EDA 軟體用來設計、模擬、驗證及實作電路;矽智財 IP 則提供處理器核心、介面等可重用功能。兩者在設計端相互配合,但不是同一種產品,也不是已製造完成的晶片。

本條目資料查閱:2026-09-26

從設計走向製造

設計資料需遵守所選晶圓製程規則;工具本身不能替代製程整合。

  • IP 的功能與適用條件需要逐項確認。
  • 更換製程通常不是直接複製檔案。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • EDA 設計工具:模擬、驗證與實體實作 · 協助檢查功能及製造限制。 · 工具、模型與製程資料須一致。
  • 處理器與介面 IP:CPU 核心、通訊介面等 · 重用成熟設計功能。 · 授權、整合與驗證仍需設計團隊處理。

判讀提醒:IP 供應商不必自己生產晶片;EDA 廠也不等於晶圓代工廠。

代表公司與交付內容

同一環節包含 EDA 工具與 IP 授權;兩者角色不同,不代表每家都提供全部產品。

  • 晶心科技 Andes · 台灣 · 代表角色 · 處理器矽智財 IP

    提供 AndesCore 處理器與 SoC 平台 IP,供晶片設計整合。

    公司產品與角色來源
  • Synopsys 新思科技 · 美國 · 代表角色 · EDA 軟體與矽智財

    提供晶片設計、驗證工具及矽智財產品。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

晶片封裝

把晶粒變成可連接、可保護及可散熱的元件

封裝將晶粒與外部系統連接,同時處理保護、供電、訊號與散熱需求。打線、覆晶、扇出與 2.5D/3D 等是不同路線;CoWoS 是其中一個技術家族,而非所有封裝的總稱。

本條目資料查閱:2026-10-30

如何接回板材?

部分封裝使用 IC 載板,再經焊球或其他連接接到 PCB。

  • 不是每一種封裝都需要有機載板或 ABF。

封裝供應商也可能跨角色

獨立封測廠、晶圓代工廠及 IDM 都可能具有部分封裝能力。

  • 公司類別不能替代具體技術與產品範圍。

外部封裝與晶圓交接

委外封裝可先運送整片晶圓,再由封測廠執行約定製程。物流載具與出貨包裝需要配合晶圓或裸晶的狀態。

  • 從「半導體精密物流」視角,可追查晶圓盒、裸晶載具及跨廠運輸。

報廢IC與封裝廢料回收矽砂漿與製程副產物再利用

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 打線與覆晶等封裝:多種邏輯、類比及記憶體產品 · 提供適合產品的連接與保護。 · 成本、尺寸、散熱及可靠度。
  • 晶圓級與多晶片整合:扇出、2.5D/3D 等架構 · 提高整合度或互連能力。 · 異質材料、翹曲、測試與良率。

判讀提醒:把一般封裝、IC 載板與 CoWoS 分開,才能避免所有晶片都被畫成同一種先進封裝。

代表公司與交付內容

  • 日月光 ASE · 台灣 · 代表角色 · 委外封裝服務

    提供多種 IC 封裝與整合服務,封裝方式依產品需求選擇。

    公司產品與角色來源
  • Amkor 安靠 · 美國 · 代表角色 · 委外封裝服務

    提供打線、覆晶、晶圓級等封裝產品與服務。

    公司產品與角色來源
  • 台積電 TSMC · 台灣 · 代表角色 · 先進封裝技術

    CoWoS 等先進封裝能力,屬於公司另行收錄的製造整合角色。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

晶圓與成品測試

從晶圓探針到封裝後,確認電性與功能

測試會出現在不同階段:晶圓探針測試在晶粒尚位於晶圓時量測;成品測試檢查封裝後元件,部分產品還有系統級測試。測試不是封裝之後才開始的一個單一步驟。

本條目資料查閱:2026-10-04

為什麼與製程檢查分開?

缺陷檢查找製程異常,電性測試驗證元件是否按規格工作。

  • 測試服務商與測試設備商也是不同角色。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 晶圓探針測試:封裝前晶粒篩選 · 辨識電性表現與可用晶粒。 · 測試覆蓋率、接觸與成本。
  • 成品與系統級測試:封裝後及應用條件驗證 · 確認功能與規格。 · 測試時間、溫度與故障檢出。

判讀提醒:列在測試節點的廠商,不代表承接所有晶片種類或所有客戶的測試。

代表公司與交付內容

  • 京元電子 · 台灣 · 代表角色 · 專業晶片測試

    晶圓針測、IC 成品測試與預燒測試服務。

    公司產品與角色來源

    資料查閱:2026-09-27

  • 力成 · 台灣 · 代表角色 · 半導體封裝測試

    晶圓測試、封裝與成品測試的一站式服務。

    公司產品與角色來源

    資料查閱:2026-09-27

  • 日月光 ASE · 台灣 · 代表角色 · 晶圓與成品測試服務

    提供晶圓探針、成品及系統級等測試。

    公司產品與角色來源
  • Amkor 安靠 · 美國 · 代表角色 · 晶圓與封裝測試服務

    提供晶圓階段及封裝後測試服務。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

晶圓製程與材料

半導體矽晶圓

晶片製造的高純度材料起點

矽晶圓材料廠把高純度矽製成單晶、切片並完成表面加工,交付供晶片製程使用的晶圓。這裡的晶圓尚未等同於已完成電晶體與線路的晶片,也不是 PCB 使用的 CCL。

本條目資料查閱:2026-10-30

材料製造與晶片製造的界線

晶圓材料廠供應基材;晶圓製造廠在基材上建立元件及互連。

  • 「晶圓」一詞可能指加工前材料或加工中的晶圓,要看上下文。

不是所有半導體都用同一種基材

此節點以矽為主。SiC、GaN 等材料平台需另看基材與製程。

  • 不能把矽晶圓能力直接延伸成所有化合物半導體能力。

功率半導體的材料入口

矽晶圓也可服務功率元件或 GaN-on-Si 磊晶路線;是否使用磊晶及基板規格按製程決定,既有晶圓代表廠商不等於已確認供應每一款 GaN 元件。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 拋光晶圓:多種矽基元件 · 提供潔淨、平坦的材料表面。 · 表面缺陷、平坦度與污染控制。
  • 磊晶與 SOI 晶圓:依元件結構選用的特殊基材 · 提供需要的材料層與結構。 · 規格需配合下游製程。

判讀提醒:環球晶、SUMCO 的材料角色,與台積電、聯電的晶圓代工角色不同。

代表公司與交付內容

  • 環球晶 GlobalWafers · 台灣 · 代表角色 · 半導體矽晶圓材料

    提供拋光、磊晶等矽晶圓產品,作為晶片製造基材。

    公司產品與角色來源
  • 台勝科 · 台灣 · 代表角色 · 矽晶圓製造

    半導體用矽晶圓材料。

    公司產品與角色來源

    資料查閱:2026-09-27

  • SUMCO · 日本 · 代表角色 · 半導體矽晶圓材料

    提供不同規格的矽晶圓,包括拋光、磊晶及 SOI 產品。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

晶圓製造

整合多種材料與反覆製程,把設計做成晶粒

晶圓製造在基材上反覆進行成膜、成像、移除材料、改變電性與檢查,建立元件及互連。晶圓代工為客戶製造晶片;IDM 則結合自有產品設計與製造。兩者都涉及製造,但商業角色不同。

本條目資料查閱:2026-10-30

從半導體主線,展開晶圓製程

製程不是只走一遍的直線

曝光、蝕刻、沉積與量測會在不同層重複出現,並配合佈植、熱處理、清洗及平坦化。

  • 圖中的製程連線表示功能關係,不是固定先後順序。

製造完成後還要做什麼?

晶圓上的晶粒需接受電性測試,並依產品進行切割、封裝及後續測試。

  • 封裝與晶圓製程是不同工作;先進封裝也可能使用晶圓級加工。

晶圓再生有機溶劑回收再生TMAH顯影液回收廢酸回收與再生含金屬廢液電解回收

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 專業晶圓代工:客戶委託的邏輯及特殊製程晶片 · 依客戶設計提供製造服務。 · 良率、製程平台、產能與交期。
  • IDM 與記憶體製造:企業自有半導體產品 · 整合產品與製造技術。 · 各產品與廠區的製程不同。
  • 先進與特殊製程:運算、類比、電源、感測等 · 讓製程適合產品用途。 · 更小的節點不一定適合所有元件。

判讀提醒:台積電、聯電與 Micron 可同時出現在「製造」節點,但不代表它們採同樣商業模式或生產相同產品。

代表公司與交付內容

晶圓代工與 IDM 都涉及製造,但商業模式及產品範圍不同;不代表任一廠商能製作圖上所有晶片。

  • 台積電 TSMC · 台灣 · 代表角色 · 專業晶圓代工

    依客戶晶片設計提供晶圓製造服務;另有先進封裝等能力。

    公司產品與角色來源
  • 聯電 UMC · 台灣 · 代表角色 · 專業晶圓代工

    提供邏輯及特殊製程的 IC 製造服務。

    公司產品與角色來源
  • Micron 美光 · 美國 · 代表角色 · 記憶體設計與製造(IDM)

    設計並製造記憶體與儲存產品,此處為自有產品製造角色。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

光罩

把設計圖案帶入微影製程的工具

光罩承載用於圖案轉移的設計。曝光系統把相應圖案轉移到晶圓的感光材料上;光罩設計、製作與缺陷控制都會影響結果。光罩與光阻不是同一種東西。

本條目資料查閱:2026-09-26

不是所有光罩都適用最先進製程

供應能力需要查明平台、規格與認證,不能由「光罩廠」名稱推論全部能力。

  • 此處以 IC 光罩為主,顯示面板光罩另有尺寸與製程需求。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • IC 光罩:積體電路圖案轉移 · 提供符合製程要求的圖案。 · 尺寸、缺陷與圖案修正。
  • 不同曝光平台的光罩:依微影架構與層別選型 · 與曝光系統和製程匹配。 · 不同光罩不能任意互換。

判讀提醒:列入光罩名錄,不表示該公司供應所有 EUV 或先進節點光罩。

代表公司與交付內容

此處列示光罩角色,不推定每家均供應 EUV 或所有先進製程。

  • 台灣光罩 TMC · 台灣 · 代表角色 · IC 與微結構光罩

    提供光罩製造及設計資料處理等服務。

    公司產品與角色來源
  • Photronics · 美國 · 代表角色 · IC 光罩

    提供積體電路用光罩,支援不同微影需求。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

製程化學品與氣體

隨不同製程消耗的高純度材料

晶圓廠除了矽晶圓,還需要光阻、顯影與清洗化學品、製程氣體及成膜前驅物等材料。不同步驟對純度、微粒、金屬雜質和批次穩定性有不同要求。

本條目資料查閱:2026-10-30

材料認證依用途區分

同樣是高純度化學品,也不能直接跨用途替換。

  • 名錄上的公司可能只供應其中一類產品。
  • 材料角色不等於設備製造或晶圓代工。

有機溶劑回收再生TMAH顯影液回收化學品回收設備與系統蝕刻氣體與化學材料

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 光阻與配套化學品:塗布、曝光、顯影及去除 · 形成可轉移的微細圖案。 · 曝光平台與製程相容性。
  • 清洗、蝕刻與成膜材料:清洗液、氣體及前驅物 · 支援移除材料或建立薄膜。 · 污染、選擇性及製程一致性。

判讀提醒:光阻、CCL 樹脂及封裝材料都可能是高分子,但使用位置、功能與認證條件不同。

代表公司與交付內容

材料種類眾多;下列廠商僅代表各自已列明的產品角色,不等於供應所有製程氣體與化學品。

  • 三福化工 San Fu Chemical · 台灣 · 代表角色 · 電子級濕式化學品

    提供 IC 等電子產業用顯影、蝕刻、剝離、清洗等化學品;與三福氣體為分開營運的公司。

    公司產品與角色來源
  • 東京應化 TOK · 日本 · 代表角色 · 光阻與配套化學品

    提供半導體微影使用的光阻及相關高純度化學品。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

黃光與微影

用光把圖案轉移到感光材料

微影結合光罩、光阻與曝光系統,形成後續加工所需圖案。曝光是其中一部分,還要配合塗布、烘烤與顯影。圖案成形後,通常仍需其他製程將它轉移到目標材料。

本條目資料查閱:2026-09-26

曝光機不能單獨做出晶片

微影提供成像能力,還要串接蝕刻、沉積、清洗等工作。

  • 一條製程不一定每一層都用相同曝光技術。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • DUV 微影:依元件及層別使用 · 完成指定解析度與對位。 · 圖案精度與製程窗口。
  • EUV 微影:部分先進製程關鍵層 · 支援更細微圖案。 · 設備、光罩、光阻與缺陷控制須共同配合。

判讀提醒:不是所有晶片、所有層都使用 EUV;黃光也不是完整晶圓製造的同義詞。

代表公司與交付內容

此處先列已核對的曝光系統角色。塗布顯影、光罩及光阻另有不同設備與材料供應商,名錄會持續補充。

  • ASML 艾司摩爾 · 荷蘭 · 代表角色 · 微影曝光系統

    提供 DUV、EUV 等微影系統,支援晶圓上的圖案轉移。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

蝕刻與清洗

移除指定材料,並控制殘留與污染

蝕刻選擇性地移除材料以形成結構;清洗則去除污染物或製程殘留。兩者可能共用部分化學技術,但目的、設備及允收條件不完全相同。

本條目資料查閱:2026-10-30

製程位置要看清楚

濕式設備也可能用於封裝或其他晶圓級加工。

  • 不能由一種清洗機型推論具備所有先進邏輯乾式蝕刻能力。

半導體蝕刻設備導體與電晶體蝕刻介電層與深孔蝕刻選擇性與原子層蝕刻

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 乾式蝕刻:細微圖案與三維結構 · 控制形狀與材料選擇性。 · 側壁、均勻性與損傷控制。
  • 濕式處理與清洗:液體化學反應與表面清潔 · 移除目標材料或殘留。 · 反應一致性、污染與乾燥。

判讀提醒:晶圓蝕刻和 PCB 蝕銅都有移除材料的概念,但尺寸、材料與設備不能直接類比。

代表公司與交付內容

濕式清洗設備與乾式蝕刻系統不是同一產品,也不能由某個用途推論全部製程能力。

  • 弘塑科技 GPTC · 台灣 · 代表角色 · 濕式蝕刻與清洗設備

    提供單晶圓、批次等濕製程設備;具體用途依機型與製程確認。

    公司產品與角色來源
  • Lam Research 科林研發 · 美國 · 代表角色 · 乾式蝕刻設備

    提供選擇性移除材料與建立細微結構所需的蝕刻系統。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

薄膜沉積

逐層建立導體、絕緣與功能材料

薄膜沉積把需要的材料形成在晶圓表面或立體結構上。晶片製造會使用多種薄膜與沉積方法,厚度、均勻性、覆蓋能力及雜質控制都會影響元件。

本條目資料查閱:2026-09-26

為什麼需要不同沉積方法?

不同材料、結構與熱預算需要不同方法,不能只以名稱判定優劣。

  • 設備與前驅物須一起開發和驗證。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • CVD 與 PVD:依反應或物理方式形成薄膜 · 提供所需膜質與厚度。 · 材料、溫度與結構覆蓋能力。
  • ALD 原子層沉積:精細厚度與立體結構覆蓋 · 透過循環反應控制薄膜。 · 產能、反應完整性與雜質。

判讀提醒:薄膜沉積不等於 PCB 壓合;兩者建立材料層的尺度及方法不同。

代表公司與交付內容

  • Lam Research 科林研發 · 美國 · 代表角色 · 薄膜沉積設備

    提供 CVD、ALD 等沉積系統,形成導電及介電薄膜。

    公司產品與角色來源
  • Applied Materials 應用材料 · 美國 · 代表角色 · 半導體薄膜與材料工程設備

    設備涵蓋沉積及其他材料加工能力,依薄膜與結構選擇系統。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

離子佈植與熱處理

控制摻雜分布,調整材料與元件特性

離子佈植把特定離子導入材料,控制摻雜等特性;熱處理則依目的進行活化、修復或材料調整。實際配方必須配合元件結構及先前已形成的材料。

本條目資料查閱:2026-09-26

不是溫度越高就越好

每一步的熱歷程會影響已形成的結構。

  • 設備能力與實際元件製程必須一起判斷。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 離子佈植:依能量與劑量導入離子 · 控制摻雜分布與深度。 · 均勻性、污染與晶格損傷。
  • 退火及其他熱處理:材料與電性調整 · 達成指定活化及膜質。 · 熱預算與其他材料的相容性。

判讀提醒:離子佈植是在既有材料中調整特性,不等同於沉積一層新薄膜。

代表公司與交付內容

  • Applied Materials 應用材料 · 美國 · 代表角色 · 離子佈植與熱處理設備

    提供離子佈植、退火等材料調整製程的設備。

    公司產品與角色來源
  • Axcelis · 美國 · 代表角色 · 離子佈植設備

    Purion 系列提供不同能量與應用需求的離子佈植系統。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

CMP 平坦化

讓多層結構回到可加工的平坦表面

CMP 結合化學作用與機械拋光,移除多餘材料並控制晶圓表面高低差。它需要設備、拋光墊、研磨液與修整耗材配合,不只是把表面磨亮。

本條目資料查閱:2026-09-27

耗材廠與設備廠要分開看

中砂的 CMP 鑽石碟用於修整拋光墊;它不是整台 CMP 設備。

  • 同一節點可包含不同角色,應閱讀廠商標示。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 平坦化設備與配方:金屬與介電層加工 · 取得需要的材料移除及平坦度。 · 均勻性、選擇性與表面缺陷。
  • 拋光與修整耗材:拋光墊、研磨液及鑽石碟 · 維持穩定加工條件。 · 耗材壽命與製程漂移。

判讀提醒:晶圓製程 CMP 與出貨矽晶圓的表面拋光相關,但不能視為相同製程條件。

代表公司與交付內容

  • 中砂 KINIK · 台灣 · 代表角色 · CMP 鑽石碟/拋光墊修整耗材

    鑽石碟用於修整拋光墊,協助維持移除率與均勻性;並非整台 CMP 設備。

    公司產品與角色來源
  • 頌勝科技 · 台灣 · 代表角色 · CMP 研磨墊

    半導體化學機械研磨墊及周邊耗材。

    公司產品與角色來源

    資料查閱:2026-09-27

  • Applied Materials 應用材料 · 美國 · 代表角色 · CMP 平坦化設備

    提供化學機械平坦化系統,以移除及平坦化晶圓表面材料。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

量測與缺陷檢查

在製造過程中找出偏差,協助控制良率

製程量測檢查尺寸、膜厚或對位等參數;缺陷檢查尋找可能影響良率的異常。它們穿插在製造流程中,並將結果回饋到製程控制。

本條目資料查閱:2026-09-26

與晶片電性測試不同

量測和檢查著重製程狀態;電性測試確認晶片功能與規格。

  • 兩者互相補充,不能只做其中一類就推定全部合格。

分類與取捨

依功能理解主要分工;實際產品與製程需按設計需求選擇。

  • 量測 Metrology:關鍵尺寸與製程參數 · 量化製造偏差。 · 精度、重複性與量測速度。
  • 缺陷檢查與複查:晶圓表面及圖案缺陷 · 找到異常並協助追查來源。 · 微小缺陷辨識與誤判控制。

判讀提醒:能量到很小尺寸,不代表每一顆晶片都符合功能或可靠度要求。

代表公司與交付內容

  • KLA 科磊 · 美國 · 代表角色 · 製程檢查、量測與控制

    提供晶圓、光罩等製程的缺陷檢查與量測能力。

    公司產品與角色來源
  • Hitachi High-Tech 日立先端科技 · 日本 · 代表角色 · CD-SEM 與缺陷檢查

    提供關鍵尺寸量測、缺陷檢查及相關資料解決方案。

    公司產品與角色來源

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

封裝與載板

IC 封裝載板

在晶片封裝與系統 PCB 之間轉接密集連線

IC 封裝載板承接晶片或中介層上的細間距連接,再把訊號與電源送到主板可接收的尺度。它是封裝的一部分,與伺服器主板的位置不同。精細線路、微孔、平坦度與尺寸控制,是它的重要技術門檻。

本條目資料查閱:2026-10-04

閱讀完整技術與產品比較

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

ABF 增層絕緣膜

支援封裝載板精細線路的薄膜材料

ABF 是 Ajinomoto Build-up Film 的縮寫,是味之素開發的封裝載板增層絕緣材料。載板廠將薄膜層壓於基板上,固化並形成微孔與銅線路,再按需要重複增層。它本身不是完成佈線的載板,也不是晶片。

本條目資料查閱:2026-09-30

閱讀完整技術與產品比較

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

CoWoS 先進封裝

把邏輯晶片與高頻寬記憶體放進同一封裝系統

CoWoS 是台積電的先進封裝技術家族。它讓邏輯晶片與 HBM 等元件經中介層互連,再接到封裝載板。這能把大量連接集中在短距離內,但同時需要晶片、記憶體、載板及封裝製程協調。

本條目資料查閱:2026-09-26

閱讀完整技術與產品比較

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

HBM 記憶體

把多層 DRAM 堆起來,提供更寬的資料通道

HBM 是以多層 DRAM 晶粒堆疊構成的記憶體架構,透過矽穿孔等垂直連接,提供很寬的資料介面。它常與高性能運算晶片在同一封裝平台內相鄰配置。容量表示能放多少資料;頻寬表示每秒能搬多少資料,兩者不同。

本條目資料查閱:2026-10-03

閱讀完整技術與產品比較

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

GPU/AI 加速器

運算核心要與記憶體、互連及軟體一起看

GPU 能同時處理大量運算;AI 加速器則是更廣的概念,包含 GPU 和針對特定工作設計的晶片。實際效能除了運算單元,還受記憶體容量與頻寬、通訊、軟體和散熱限制。這也是它會連到多個產業節點的原因。

本條目資料查閱:2026-10-30

閱讀完整技術與產品比較

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄

ABF 封裝載板

增層線路・微孔・封裝互連

ABF 封裝載板使用 ABF 膜作為增層絕緣材料,再製作銅線路與微孔,形成晶片封裝所需的互連結構。味之素供應膜材,欣興、AT&S 等廠商製作載板,兩者位於上下游。

本條目資料查閱:2026-09-27

膜材如何變成載板?

載板廠反覆進行層壓、微孔加工及線路形成,讓訊號與電源通過多層互連。

  • ABF 是增層絕緣材料;完成的載板還包含導體、核心或其他結構。

與 IC 封裝載板的關係

IC 封裝載板是較大的產品類別;ABF 載板是其中一種材料與結構路線。

  • 不能把所有 IC 載板都叫作 ABF 載板,也不能把 ABF 膜原廠與載板廠放在同一材料名單。

載板廠的製造挑戰

精細佈線、層間對位、微孔可靠度與翹曲控制,需要整套製程共同配合。

  • 同一膜材牌號不保證所有廠商都能做出相同規格的載板。

分類與取捨

依工作與交付內容區分;同一家企業可參與多個環節。

  • 高密度增層互連:CPU、GPU 等晶片封裝 · 把細間距連接轉接到系統板。 · 細線、微孔、層間對位與良率。
  • 大尺寸、多層載板:需要更多佈線與電源連接的封裝 · 承載複雜封裝結構。 · 翹曲、尺寸變化與熱可靠度。

判讀提醒:節點代表產業角色;代表廠商不是完整名錄,連線也不指定某兩家公司的供貨關係。

代表公司與交付內容

載板廠採用增層絕緣材料製作互連產品;膜材原廠另見 ABF 增層絕緣膜。

  • 欣興電子 · 台灣 · 代表角色 · ABF 載板製造

    公開 ABF 載板生產與良率改善案例;交付載板產品。

    公司產品與角色來源

    資料查閱:2026-09-27

  • 南電 · 台灣 · 代表角色 · IC 載板製造

    封裝用 IC 載板與 ABF 載板;與 ABF 絕緣膜供應商不同。

    公司產品與角色來源

    資料查閱:2026-09-27

  • AT&S · 奧地利 · 代表角色 · ABF 載板製造

    生產高效能處理器使用的 ABF 載板。

    公司產品與角色來源

    資料查閱:2026-09-27

在地圖探索此環節回報此條目回到目錄