| PCB 印刷電路板 ↔ IC 封裝載板 | 相鄰產品環節 兩者有線路、絕緣與微孔等相關技術,但封裝載板位於晶片封裝內,並非系統主板。 | IBIDEN|IC 封裝載板、SAP 與微孔 2026-09-26 |
| 電子級玻纖布 → IC 封裝載板 | 部分有機芯材補強 特殊玻纖可用於載板芯材控制膨脹與剛性;與 ABF 增層的功能位置不同。 | 日東紡|特殊玻纖的電性與熱機械需求 2026-09-26 |
| IC 封裝載板 → CoWoS 先進封裝 | 封裝承載與連接 CoWoS 結構中的載板承接上層整合並連向系統板,與中介層不同。 | TSMC|CoWoS-S/R/L 2026-09-26 |
| HBM 記憶體 → CoWoS 先進封裝 | 整合元件 CoWoS 可整合 HBM 與邏輯晶片;HBM 是記憶體元件,CoWoS 是封裝技術。 | TSMC|CoWoS-S/R/L 2026-09-26 |
| CoWoS 先進封裝 ↔ GPU/AI 加速器 | 封裝整合選項 部分高性能 GPU/AI 加速器採這類封裝,不代表所有 GPU 都使用 CoWoS。 | TSMC|CoWoS-S/R/L 2026-09-26 |
| HBM 記憶體 → GPU/AI 加速器 | 高頻寬記憶體 部分高性能 GPU 使用 HBM,容量與頻寬取決於實際配置。 | NVIDIA|H200:運算與 HBM 的系統範例 2026-09-26 |
| GPU/AI 加速器 → AI 伺服器 | 運算組件 GPU/加速器與 CPU、記憶體、網路、供電和散熱共同構成 AI 系統。 | NVIDIA|DGX B200 硬體組成 2026-09-26 |
| EDA 與矽智財 IP → IC 設計 | 設計工具與 IP EDA 與可重用 IP 支援晶片設計,不是完成製造的晶粒。 | Synopsys|電子設計自動化 2026-09-26 |
| IC 設計 ↔ 晶圓製造 | 設計與製程協作 設計必須遵守所選製程規則;此連線不是指定公司間的委託關係。 | TSMC|專業晶圓代工的分工 2026-09-26 |
| 半導體矽晶圓 → 晶圓製造 | 晶圓基材 材料廠交付基材,製造廠在晶圓上建立元件與互連。此處以矽基平台為主。 | 環球晶|矽晶圓產品 2026-09-26 |
| 製程化學品與氣體 → 晶圓製造 | 製程材料 不同步驟使用不同化學品、氣體與前驅物,需依製程認證。 | 東京應化|半導體製造用光阻與化學品 2026-09-26 |
| 光罩 → 黃光與微影 | 圖案轉移工具 光罩承載圖案,配合曝光系統與光阻;平台與層別決定實際規格。 | Applied Materials|光罩與圖案轉移 2026-09-26 |
| 製程化學品與氣體 → 黃光與微影 | 光阻與配套材料 光阻及配套化學品配合塗布、曝光及顯影等步驟。 | 東京應化|半導體製造用光阻與化學品 2026-09-26 |
| 黃光與微影 ↔ 晶圓製造 | 圖案成像 這是晶圓製造中的功能環節,會依元件與層別重複或交錯使用;不表示固定順序或單一廠商涵蓋全部製程。 | ASML|晶片製造的主要步驟 2026-09-26 |
| 蝕刻與清洗 ↔ 晶圓製造 | 材料移除與清潔 這是晶圓製造中的功能環節,會依元件與層別重複或交錯使用;不表示固定順序或單一廠商涵蓋全部製程。 | Lam Research|蝕刻製程 2026-09-26 |
| 薄膜沉積 ↔ 晶圓製造 | 建立薄膜 這是晶圓製造中的功能環節,會依元件與層別重複或交錯使用;不表示固定順序或單一廠商涵蓋全部製程。 | Lam Research|薄膜沉積 2026-09-26 |
| 離子佈植與熱處理 ↔ 晶圓製造 | 摻雜與材料調整 這是晶圓製造中的功能環節,會依元件與層別重複或交錯使用;不表示固定順序或單一廠商涵蓋全部製程。 | Applied Materials|離子佈植 2026-09-26 |
| CMP 平坦化 ↔ 晶圓製造 | 平坦化 這是晶圓製造中的功能環節,會依元件與層別重複或交錯使用;不表示固定順序或單一廠商涵蓋全部製程。 | Applied Materials|CMP 平坦化 2026-09-26 |
| 量測與缺陷檢查 ↔ 晶圓製造 | 製程監測與回饋 這是晶圓製造中的功能環節,會依元件與層別重複或交錯使用;不表示固定順序或單一廠商涵蓋全部製程。 | KLA|晶片製造與製程控制入門 2026-09-26 |
| 晶圓製造 → 晶片封裝 | 製造完成的晶粒 依產品經測試、切割及後續封裝;晶圓級封裝等流程的步驟安排可能不同。 | Amkor|半導體封裝種類 2026-09-26 |
| 晶圓製造 ↔ 晶圓與成品測試 | 晶圓探針測試 封裝前可先進行晶圓階段的電性測試,並非只在封裝後測試。 | 日月光|晶圓探針、成品及系統級測試 2026-09-26 |
| 晶片封裝 ↔ 晶圓與成品測試 | 封裝後測試 成品與系統級測試依產品驗證功能及規格。 | Amkor|晶圓與封裝測試 2026-09-26 |
| IC 封裝載板 → 晶片封裝 | 部分封裝的承載互連 部分封裝採 IC 載板;並非每一種封裝都需要有機載板。 | Amkor|半導體封裝種類 2026-09-26 |
| 晶片封裝 → CoWoS 先進封裝 | 封裝技術家族之一 CoWoS 是台積電的先進封裝家族,不等於所有晶片封裝。 | TSMC|CoWoS-S/R/L 2026-09-26 |
| IC 設計 ↔ GPU/AI 加速器 | 晶片設計角色 這裡連接設計環節與功能產品,不代表特定晶片由哪一家企業設計或代工。 | Synopsys|電子設計自動化 2026-09-26 |
| 晶片封裝 ↔ GPU/AI 加速器 | 依產品選擇封裝 不同產品選擇不同封裝,不表示所有 GPU 或 SoC 都使用 CoWoS。 | Amkor|半導體封裝種類 2026-09-26 |
| IC 設計 ↔ SoC 與端側運算 | 晶片設計角色 這裡連接設計環節與功能產品,不代表特定晶片由哪一家企業設計或代工。 | Synopsys|電子設計自動化 2026-09-26 |
| 晶片封裝 ↔ SoC 與端側運算 | 依產品選擇封裝 不同產品選擇不同封裝,不表示所有 GPU 或 SoC 都使用 CoWoS。 | Amkor|半導體封裝種類 2026-09-26 |
| 晶圓製造 ↔ 記憶體與儲存供應鏈 | 記憶體製造 DRAM 與 NAND 有各自的製程架構;不能由記憶體製造能力推定邏輯代工能力。 | Micron|記憶體產品與製造據點 2026-09-26 |
| 晶圓製造 ↔ HBM 記憶體 | DRAM 晶粒與後續堆疊 HBM 需要 DRAM 晶粒及後續垂直互連、堆疊等加工,晶圓製造只是其中一段。 | Micron|HBM 架構 2026-09-26 |
| ABF 增層絕緣膜 → ABF 封裝載板 | 增層絕緣材料 膜材由載板廠加工成多層互連,兩者是材料與下游成品關係。 | 味之素|ABF 增層絕緣材料 2026-09-27 |
| IC 封裝載板 → ABF 封裝載板 | 封裝載板的一類 ABF 載板屬 IC 封裝載板;分類線不表示先做通用載板再製作 ABF 載板。 | 味之素|ABF 增層絕緣材料 2026-09-27 |
| ABF 封裝載板 → 晶片封裝 | 封裝承載與互連 ABF 載板供需要此類有機載板的封裝使用,並非所有封裝都採用。 | 欣興|ABF 載板與品質管理 2026-09-27 |
| 晶圓製造 → 車用功率與控制半導體 | 車用半導體製造入口 沿本站既有晶圓製造鏈延伸;特定功率元件需要對應材料、製程和車用驗證,並非所有晶圓廠皆生產。 | Infineon|車用功率半導體及電驅方案 2026-09-30 |
| ABF 增層絕緣膜 → 玻璃基板增層與 RDL 線路 | 可選:ABF 增層絕緣 Intel 公開專利含玻璃核心兩面 ABF 架構,證明可以共存;不是特定量產產品採用或味之素客戶訂單證據。 | Intel 公開專利 US20260005081A1|玻璃核心與 ABF 共存架構 2026-09-30 |
| IC 封裝載板 → 玻璃核心封裝載板 GCS | 以玻璃作為核心的載板 IC 封裝載板的一類架構,非所有載板都採玻璃核心。 | TOPPAN|玻璃核心 FC-BGA 與玻璃中介層 2026-09-30 |
| 晶片封裝 → 玻璃基板封裝整合 | 玻璃結構的封裝整合 連回先進封裝總體;不將既有封測業者全部列為 GCS 量產商。 | Intel|ECTC 2026 玻璃核心、填銅 TGV 與封裝研究 2026-09-30 |
| 晶片封裝 → CPO 光電整合與封裝 | 光電封裝服務 | NVIDIA|2026 平台製造分工 2026-10-01 |
| DRAM 記憶體晶片 → HBM 記憶體 | HBM 屬於 DRAM 架構 適用範圍 1 | Micron|HBM 產品與架構 2026-10-03 |
| HBM 邏輯基底晶片 → HBM 記憶體 | 堆疊所需邏輯基底 適用範圍 1 | SK hynix|與台積電合作 HBM4 base die 及 CoWoS 整合 2026-10-03 |
| HBM/PWF 製造合作 → HBM 記憶體 | 美光 HBM 製造合作 適用範圍 1 | 力積電|2026-03-16 美光 HBM/PWF 合作公告 2026-10-03 |
| 客製化 3D 記憶體整合 ↔ GPU/AI 加速器 | AI 邏輯與記憶體整合方向 適用範圍 1 | 力積電|2026 COMPUTEX:3D AI Foundry 與合作夥伴 2026-10-03 |
| 記憶體封裝與測試 → 晶圓與成品測試 | 記憶體領域的測試分工 適用範圍 1 | 力成|DRAM、NAND、NOR 成品測試 2026-10-03 |
| 記憶體晶圓代工 → 晶圓製造 | 記憶體領域的晶圓代工 適用範圍 1 | 力積電|2026-03-16 美光 HBM/PWF 合作公告 2026-10-03 |
| 半導體跨廠精密物流 → 晶圓製造 | 晶圓出貨與跨廠交接 適用範圍 2 | 中菲行|全球半導體運輸 2026-10-04 |
| 半導體跨廠精密物流 → 晶片封裝 | 送交外部封裝廠 適用範圍 2 | Amkor|凸塊、晶圓測試與封測整合 2026-10-04 |
| 半導體跨廠精密物流 → 晶圓與成品測試 | 晶圓或成品測試交接 適用範圍 2 | Amkor|晶圓測試與晶圓圖管理 2026-10-04 |
| BT 樹脂系統 → IC 封裝載板 | 適用 BT 系列進入封裝載板 適用範圍 3 | MGC|BT 樹脂與積層板 2026-10-04 |
| GPU/AI 加速器 → 運算托盤與伺服器模組 | 運算晶片與加速器模組 適用範圍 4 | NVIDIA|MGX 模組化架構與系統夥伴 2026-10-05 |
| IC 設計 ↔ 支付安全晶片與 NFC | 安全晶片應用 從 IC 設計延伸支付晶片;不指定代工供應關係。 | NXP|支付用安全晶片與 NFC 2026-10-06 |
| 半導體矽晶圓 → 功率半導體磊晶 | Si 磊晶及 GaN-on-Si 的基板路線 適用範圍 5 | 嘉晶|GaN-on-Si 磊晶結構 2026-10-08 |
| 晶片封裝 → 功率元件封裝與測試 | 功率元件封裝分支 適用範圍 5 | 日月光|導線架與功率元件封裝 2026-10-08 |
| 晶片封裝 → 報廢IC與封裝廢料回收 | 報廢零件與IC 封裝零件與IC可依成分進入材料回收;不是修復或二手銷售。 | 金益鼎|廢電子零件、電路板及金屬回收 2026-10-30 |
| 晶圓製造 → 晶圓再生 | 可再生晶圓送加工 依條件選擇可剝膜、拋光與清洗的晶圓。 | 昇陽半導體|晶圓再生製程 2026-10-30 |
| 晶圓再生 → 晶圓製造 | 再生片回用 回廠使用依晶圓與製程規範;不代表可直接製造任意產品晶片。 | 昇陽半導體|晶圓再生製程 2026-10-30 |
| 半導體矽晶圓 → 矽砂漿與製程副產物再利用 | 研磨切割副產物 依光宇公開晶圓研磨切割廢料範圍列示。 | 光宇材料|矽砂漿與廢酸回收 2026-10-30 |
| 晶片封裝 → 矽砂漿與製程副產物再利用 | 切割研磨廢料 晶圓切割研磨產生的矽砂漿須依成分與收受條件處理。 | 光宇材料|矽砂漿與廢酸回收 2026-10-30 |
| 晶圓製造 → 有機溶劑回收再生 | 有機溶劑廢液 尚達公開服務積體電路製造業;不指認特定客戶。 | 尚達化工|廢溶劑純化與再生 2026-10-30 |
| 晶片封裝 → 有機溶劑回收再生 | 封測溶劑廢液 尚達公開服務半導體封裝測試業,依廢液種類處理。 | 尚達化工|廢溶劑純化與再生 2026-10-30 |
| 晶圓製造 → TMAH顯影液回收 | 顯影廢液回收 表示半導體製程廢液來源,不指認三福的未公開客戶。 | 三福化工|TMAH循環與國際日東布局 2026-10-30 |
| 晶圓製造 → 廢酸回收與再生 | 廢硫酸處理 光宇公開半導體廢硫酸來源;產出為工業級。 | 光宇材料|工業級再生硫酸 2026-10-30 |
| 有機溶劑回收再生 → 製程化學品與氣體 | 符合規格才回製程 台積電再生溶劑驗證案例;不是所有回收商皆已電子級回用。 | 台積電|化學品廢液再利用(2026-01-12) 2026-10-30 |
| TMAH顯影液回收 → 製程化學品與氣體 | 再生顯影化學品 三福公開TMAH再生;實際導入依客戶驗證。 | 三福化工|TMAH循環與國際日東布局 2026-10-30 |
| 晶圓製造 → 含金屬廢液電解回收 | 半導體製程含金屬廢液 表示適用的製程來源,非衛司特與圖上個別公司的合約。 | 衛司特|RecoCell電解回收系統 2026-10-30 |
| IC 設計 → 個人運算CPU與SoC | 晶片設計/製造環節 表示產品功能與產業分工,不指定公司對公司採購關係。 | AMD|處理器與顯示產品 2026-10-30 |
| 晶圓製造 → 個人運算CPU與SoC | 晶片設計/製造環節 表示產品功能與產業分工,不指定公司對公司採購關係。 | AMD|處理器與顯示產品 2026-10-30 |
| 晶片封裝 → 個人運算CPU與SoC | 晶片設計/製造環節 表示產品功能與產業分工,不指定公司對公司採購關係。 | AMD|處理器與顯示產品 2026-10-30 |
| GPU/AI 加速器 → 桌上型個人電腦 | 選配圖形運算 表示產品功能與產業分工,不指定公司對公司採購關係。 | AMD|處理器與顯示產品 2026-10-30 |
| GPU/AI 加速器 → 筆記型電腦 | 依機型配置GPU 表示產品功能與產業分工,不指定公司對公司採購關係。 | AMD|處理器與顯示產品 2026-10-30 |
| GPU/AI 加速器 → 桌機顯示卡與板卡整合 | 圖形晶片整合 表示產品功能與產業分工,不指定公司對公司採購關係。 | 華碩|顯示卡產品 2026-10-30 |
| 半導體蝕刻設備 ↔ 蝕刻與清洗 | 蝕刻設備支援 設備支援材料移除;不涵蓋本節點所有濕式清洗用途。 | Lam|蝕刻製程與產品 2026-10-30 |
| 製程化學品與氣體 → 蝕刻氣體與化學材料 | 蝕刻材料分支 從廣義製程材料展開到蝕刻氣體;不涵蓋全部濕式藥液。 | Linde|電子特用氣體 2026-10-30 |